半导体微孔陶瓷真空吸盘 晶圆吸盘抓取解决方案

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Production Process

Raw Materials Alumina(Al2O3), Zirconium Dioxide (ZrO2), Silicon Carbide (SiC)
Powder Preparation -
Molding -
Sintering Process -
Processing Technology -

Product Description

Model
Brand
jifeng
Origin
-
Port
-

No. 62, Sanxi Road, Qinggang Street, Bishan District, Chongqing
Business mode production trade service other

Features

​高强度与高韧性
氧化锆(ZrO₂)陶瓷的断裂韧性(6-8 MPa·m¹/²)显著优于氧化铝,抗冲击性能优异,可承受高频次机械抓取操作。
​微孔结构精准可控
通过造孔剂烧结技术,孔径范围可定制(1-50μm),孔隙率高达30%-50%,实现均匀透气或吸附功能。
​耐高温与抗热震性
耐温达1000℃(部分稳定氧化锆),热膨胀系数低(~10×10⁻⁶/℃),适用于高温真空环境或骤冷骤热工况。
​化学惰性与耐腐蚀性
对强酸(HF除外)、强碱及有机溶剂高度稳定,适合半导体、化工等腐蚀性环境下的吸附作业。
​超低磨损与自润滑性
表面硬度HV1200-1400,摩擦系数低(0.1-0.2),避免划伤精密工件(如硅片、光学玻璃)。
​生物相容性与洁净性
符合医疗级材料标准(如ISO 10993),无污染、易灭菌,用于生物芯片抓取或无菌生产线。

Product Details

提供半导体微孔陶瓷真空吸盘 晶圆吸盘抓取解决方案,如果您对我们的产品感兴趣,请联系我们。

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